截至2009年12月7日，我國專(zhuān)利授權總量突破300萬(wàn)件，達到300.7636萬(wàn)件，其中發(fā)明專(zhuān)利授權57.3372萬(wàn)件，占19.1%；實(shí)用新型專(zhuān)利授權134.0391萬(wàn)件，占44.5%；外觀(guān)設計專(zhuān)利授權109.3873萬(wàn)件，占36.4%。

　　統計數據顯示，我國專(zhuān)利授權數量在保持快速增長(cháng)的同時(shí)，呈現出以下特點(diǎn)：一是每百萬(wàn)件審批時(shí)間明顯縮短。自專(zhuān)利法實(shí)施起，我國授權專(zhuān)利總量用了18年零4個(gè)月達到首個(gè)100萬(wàn)件，第二個(gè)100萬(wàn)件歷時(shí)4年零2個(gè)月，第三個(gè)100萬(wàn)件僅僅用時(shí)2年零1個(gè)月，專(zhuān)利審查能力不斷增強；二是發(fā)明專(zhuān)利授權國內比重持續攀升。
　　2009年前11個(gè)月我國授權的發(fā)明專(zhuān)利中，國內所占比重達到50.5%，比2006年的43.4%上升了7.1個(gè)百分點(diǎn)，全社會(huì )的知識產(chǎn)權創(chuàng )造水平逐步提升；三是國內企業(yè)授權專(zhuān)利比重穩步增長(cháng)。
　　2009年前11個(gè)月國內授權的專(zhuān)利中，企業(yè)專(zhuān)利所占比重為43.6%，比2006年的34.1%上升了9.5個(gè)百分點(diǎn)，企業(yè)逐漸成為知識產(chǎn)權創(chuàng )造和運用的主體。